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伯东NS离子刻蚀机
离子蚀刻机 20-M/NS-12 主要技术参数:基片尺寸直径 4英寸 X 12片直径 18英寸 X 3片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源WELL-5100(可更换为国内电源
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伯东离子蚀刻机 NS-5
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多参数水质分析仪(5参数)
1、可以同时检测5个参数2、快速测定,节省人工3、可以检测多种类型水质多参数水质分析仪(5参数)仪表应用微电脑散射光检测浊度,光电子比色检测离子。 XZ-0105多参数水质分析仪(5参数)适用于
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刻蚀光栅
刻蚀光栅一、标准的刻蚀光栅规格:刻线/mm闪耀波长nm闪耀角度色散nm/mr12.7x12.7x 625x25x 625x25x 9.530x30x 9.550x50x 9.512.5x25x
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GAIA3 model 2016超高分辨双束扫描电镜系统 (FIB-SEM
光学系统设计 ·马达控制的精准样品台,可进行精确的移动或倾转操作 ·Field-free模式下可对磁性样品进行有效观察 ·高达400nA的束流强度 ·停留时间低至20ns的快速电子束刻蚀速度 ·FIB
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触摸屏多参数农药残留检测仪器YT-NS16
) 可配置大容量锂电池 本产品具有12个检测通道,可以同时测试多个样品,每个样品由程序控制分别独立工作,不会互相干扰。触摸屏多参数农药残留检测仪器YT-NS16主要参数:1、 广泛应用于主要用于蔬菜
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伯东日本离子蚀刻机
离子蚀刻机10-M/NS-5 主要技术参数:基片尺寸直径 6英寸 X 1片样品台直接冷却,单独冷却离子源10cm 考夫曼离子源电源WELL-2000(可更换为国内电源上海伯东日本NS进口离子蚀刻机
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸
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伯东离子蚀刻机NS
离子蚀刻机 20-M/NS-8 主要技术参数:基片尺寸直径 3英寸 X 8片直径 4英寸 X 6片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源WELL-5000(可更换为国内电源上海伯东日本 NS
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光刻胶
) 衡量光刻胶流动特性的参数。黏度通常可以使用光刻胶中聚合物的固体含量来控制。同一种光刻胶根据浓度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度决定了该胶的不同的涂胶厚度。5. 抗蚀性
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